1. Система фильтрации с использованием мультимедийных фильтров/активированного угля:
В каком производственном процессе применяется
Мультимедийные фильтры обычно используются на начальном этапе водоподготовки, эффективно удаляя примеси, такие как взвешенные вещества, коллоиды и частицы в воде, за счет сочетания различных фильтрующих материалов. Это обеспечивает относительно чистый источник воды для последующих процессов обработки. Этот этап имеет большое значение для защиты последующего технологического оборудования и повышения общей эффективности обработки.

Фильтры с активированным углем в основном используются для удаления из воды таких примесей, как органические вещества, запахи и пигменты. Активированный уголь обладает высокой адсорбционной способностью, которая позволяет адсорбировать и удалять эти загрязняющие вещества из воды, тем самым дополнительно повышая чистоту воды. Этот этап имеет решающее значение для обеспечения качества и стабильности ультрачистой воды.

Сочетание мультимедийных фильтров и фильтров с активированным углем позволяет эффективно удалять большинство примесей из воды, создавая хорошую основу качества воды для последующих методов глубокой очистки, таких как обратный осмос и ионный обмен. Это помогает обеспечить качество и стабильность ультрачистой воды, необходимой в производственном процессе электронной полупроводниковой промышленности, тем самым повышая производительность и надежность продукции.

Технические принципы
Технический принцип работы мультимедийных фильтров заключается в основном в использовании одного или нескольких фильтрующих материалов для удаления взвешенных примесей из воды методом глубокой фильтрации. Когда исходная вода проходит через фильтрующий материал сверху вниз, более крупные частицы удаляются в верхнем слое, а более мелкие частицы удаляются на большей глубине фильтрующего материала. Это в основном зависит от эффекта адсорбции и механического блокирования слоя фильтрующего материала, а также от плотности расположения песчаных частиц, что дает частицам воды больше возможностей для столкновения с песчинками и их перехвата. После такой обработки содержание взвешенных веществ в очищенной воде может быть снижено до более низкого уровня, чтобы обеспечить прозрачность воды.
Технический принцип работы фильтров с активированным углем основан в основном на эффекте адсорбции активированного угля. Активированный уголь имеет большую площадь поверхности и сложную пористую структуру, что обеспечивает ему высокую адсорбционную способность. Когда вода проходит через фильтр с активированным углем, загрязняющие вещества, такие как органические вещества, запахи и пигменты, адсорбируются на поверхности активированного угля и эффективно удаляются. Кроме того, активированный уголь может также удалять остаточный хлор из воды, обеспечивая нормальную работу последующего технологического оборудования.

Какие эффекты мы можем достичь
Во-первых, как предварительное оборудование для обработки, конструкция мультимедийного фильтра с несколькими комбинациями фильтрующих материалов позволяет эффективно удалять из воды крупные примеси, такие как взвешенные вещества и твердые частицы. Это имеет решающее значение для защиты последующего оборудования и процессов водоподготовки, обеспечивая стабильную работу всей системы водоподготовки. На этом этапе можно получить предварительно очищенный источник воды для электронной полупроводниковой промышленности, снижая потенциальное воздействие примесей на производственный процесс.
Во-вторых, фильтры с активированным углем используют свою высокую адсорбционную способность для дальнейшего удаления из воды следовых примесей, таких как органические вещества, запахи и пигменты. Если эти примеси не удалены, они могут отрицательно повлиять на качество и характеристики электронных полупроводниковых изделий. Применение фильтров с активированным углем может значительно улучшить чистоту источников воды и удовлетворить строгие требования электронной и полупроводниковой промышленности к высокому качеству воды.

2. Система ультрафильтрации:
В каком производственном процессе применяется
Во-первых, в процессе очистки ультрафильтрационные мембраны могут эффективно удалять частицы и ионы из воды, служа предварительной обработкой для высококачественных систем ультрачистой воды. Эта ультрачистая вода используется для очистки полупроводниковых приборов и оборудования, чтобы обеспечить чистоту поверхности изделий и избежать воздействия загрязняющих веществ на производительность и надежность продукции.

Во-вторых, технология ультрафильтрации также широко используется при приготовлении технологических жидкостей. В процессе производства полупроводников используются различные технологические жидкости, такие как кислоты, основания, органические растворители и т. д. Ультрафильтрационные мембраны могут фильтровать и очищать эти жидкости, удалять примеси и частицы, обеспечивая соответствие чистоты и качества жидкости производственным требованиям.

Кроме того, технология ультрафильтрации играет важную роль в циркуляции охлаждающей воды оборудования. Полупроводниковое производственное оборудование генерирует большое количество тепла во время работы и требует охлаждающей воды для рассеивания тепла. Ультрафильтрационная мембрана может удалять частицы и ионы из охлаждающей воды, предотвращать повреждение оборудования примесями и обеспечивать нормальную работу оборудования и стабильность продукции.

Технические принципы
Технический принцип ультрафильтрации основан в основном на мембранном процессе разделения под давлением. Суть заключается в использовании полупроницаемой мембраны с определенным размером пор, а именно ультрафильтрационной мембраны, для перехвата коллоидов, частиц и веществ с относительно высокой молекулярной массой в воде, в то время как вода и мелкие растворенные частицы могут проникать через мембрану.

Размер пор ультрафильтрационных мембран обычно составляет от 20 до 1000 Å, а диапазон фильтрации составляет от 0,002 мкм до 0,2 мкм, что позволяет эффективно перехватывать частицы диаметром более 0,002 мкм, такие как белки, пектин, жиры и микроорганизмы. Ультрафильтрационные мембраны из разных материалов и конструкций имеют различный эффект разделения и области применения, поэтому необходимо выбирать соответствующую ультрафильтрационную мембрану в соответствии с конкретными требованиями к применению. Между тем, такие условия эксплуатации, как приложенное давление, скорость потока и температура, также могут влиять на эффективность фильтрации ультрафильтрации, и необходим оптимизированный контроль.

Какие эффекты мы можем достичь
Во-первых, система ультрафильтрации может обеспечить высокочистую технологическую воду. В процессе производства электронных полупроводников предъявляются высокие требования к качеству воды, и любые небольшие примеси могут серьезно повлиять на качество и характеристики продукции. Система ультрафильтрации благодаря своей высокой эффективности фильтрации может эффективно удалять из воды частицы, коллоиды, бактерии и другие примеси, обеспечивая чистоту технологической воды и удовлетворяя высокие стандарты качества воды в процессах производства электронных полупроводников.

Во-вторых, системы ультрафильтрации могут защищать производственное оборудование. Благодаря способности систем ультрафильтрации обеспечивать чистую технологическую воду, это помогает снизить коррозию и образование накипи в производственном оборудовании, вызванные проблемами качества воды, тем самым увеличивая срок службы оборудования и снижая затраты на техническое обслуживание.

Кроме того, системы ультрафильтрации также могут помочь повысить эффективность производства. Обеспечивая качество и стабильность технологической воды, системы ультрафильтрации могут снизить простои производства и колебания качества продукции, вызванные проблемами качества воды, тем самым обеспечивая непрерывность и стабильность производственного процесса и повышая эффективность производства.
Наконец, системы ультрафильтрации также способствуют охране окружающей среды и устойчивому развитию. Эффективно удаляя загрязняющие вещества из воды, системы ультрафильтрации могут снизить сложность и стоимость очистки сточных вод и минимизировать их воздействие на окружающую среду. В то же время применение систем ультрафильтрации также способствует переходу электронной полупроводниковой промышленности к более экологичным и устойчивым методам производства.

3. Система мембран обратного осмоса:
В каком производственном процессе применяется
Мембраны обратного осмоса в основном используются в полупроводниковой промышленности на этапах подготовки ультрачистой воды. В процессе производства электронных полупроводников ультрачистая вода широко используется для очистки ключевых компонентов, таких как кремниевые пластины и микросхемы, эффективно удаляя поверхностные частицы и органические вещества и снижая процент брака продукции. Мембраны обратного осмоса могут обеспечить стабильную обессоленную воду с низким напряжением, удовлетворяя высокие требования к качеству воды полупроводниковой промышленности.

Кроме того, технология мембран обратного осмоса может также обеспечить высококачественную воду для промывки, обеспечивая надежность и стабильность компонентов. Используя характеристики мембран обратного осмоса, можно добиться точного контроля качества воды, удовлетворяя строгие требования к ультрачистой воде в процессах производства электронных полупроводников.

Технические принципы
Мембрана обратного осмоса обычно представляет собой искусственно синтезированную полупроницаемую мембрану с очень маленьким размером пор, которая может эффективно перехватывать примеси, такие как растворимые соли, органические вещества и ионы тяжелых металлов в воде, позволяя при этом проходить молекулам воды. Если на одной стороне концентрированного раствора приложить давление, превышающее осмотическое давление, направление потока растворителя будет противоположным исходному осмотическому направлению, начиная течь из концентрированного раствора на сторону разбавленного раствора. Этот процесс называется обратным осмосом. В этот момент растворитель проходит через мембрану обратного осмоса под давлением, а растворенное вещество перехватывается мембраной, достигая цели разделения и очистки.

Какие эффекты мы можем достичь
Во-первых, мембраны обратного осмоса эффективно удаляют из воды такие примеси, как бактерии, органические вещества и металлические элементы, обеспечивая качество и стабильность ультрачистой воды. Эта вода высокой чистоты незаменима в процессе производства электронных полупроводников, используется для очистки ключевых компонентов, таких как кремниевые пластины и чипы, эффективно удаляет поверхностные частицы и органические вещества, снижает процент брака продукции и тем самым повышает качество и производительность продукции.

Во-вторых, применение технологии мембран обратного осмоса замедлило изменения в качестве производственной воды, вызванные колебаниями качества исходной воды, что способствует стабилизации качества воды в производстве. Это положительно влияет на стабильность качества продукции ультрачистой воды и помогает обеспечить квалифицированное производство полупроводниковой продукции.

В заключение, применение мембран обратного осмоса в электронно-полупроводниковой промышленности позволяет эффективно получать ультрачистую воду, обеспечивать стабильность и надежность качества продукции, а также способствует снижению производственных затрат и загрязнения окружающей среды.

4. Система EDI:
В каком производственном процессе применяется
Системы EDI, также известные как системы электродеионизации, имеют широкий спектр применения в полупроводниковой промышленности. В основном они используются на этапах подготовки ультрачистой воды.

В процессе производства полупроводников ультрачистая вода используется на нескольких ключевых этапах, таких как очистка ключевых компонентов, таких как кремниевые пластины и чипы, а также в качестве основы для приготовления других технологических жидкостей. Система EDI может эффективно удалять ионы и другие примеси из воды с помощью технологии ионнообменных мембран и технологии ионной электромиграции, тем самым получая высокочистую ультрачистую воду.

В частности, системы EDI могут удалять ионы из воды, такие как ионы металлов, такие как натрий, кальций, магний, а также анионы, такие как хлоридные и сульфатные ионы, что приводит к чрезвычайно низкой электропроводности воды и отвечает высоким требованиям к качеству воды в процессах производства полупроводников. Между тем, благодаря своей высокой способности к удалению ионов, системы EDI также могут снизить частоту регенерации и потребление химикатов, необходимых в традиционных ионнообменных процессах, что снижает эксплуатационные расходы и воздействие на окружающую среду.

Технические принципы
Технические принципы работы систем EDI основаны в основном на технологии ионнообменных мембран и технологии ионной электромиграции.

Под действием постоянного электрического поля диэлектрические ионы в перегородке системы EDI подвергаются направленному движению. Ионнообменные мембраны обладают селективной проницаемостью для ионов, позволяя проходить некоторым ионам, а другим — нет, тем самым достигая очистки качества воды. В этом процессе ионообменная смола непрерывно регенерируется электричеством, поэтому нет необходимости использовать кислоту и щелочь для регенерации.

В частности, модуль EDI содержит ионообменную смолу между анионными/катионными мембранами для образования блоков EDI, которые разделены сетками для образования камеры концентрированной воды и камеры пресной воды. После установки отрицательных/положительных электродов на обоих концах группы блоков постоянный ток заставляет отрицательные и положительные ионы в камере пресной воды проходить через соответствующие ионнообменные мембраны и попадать в камеру концентрированной воды, тем самым удаляя эти ионы из камеры пресной воды. Вода в камере концентрированной воды выносит ионы из системы, образуя концентрированную воду.

Какие эффекты мы можем достичь
Система EDI может эффективно получать ультрачистую воду. В процессе производства полупроводников ультрачистая вода является ключевым фактором производства, используемым для очистки основных компонентов, таких как кремниевые пластины и чипы, а также в качестве основы для приготовления других технологических жидкостей. Система EDI благодаря своей высокой способности к удалению ионов может удалять из воды такие примеси, как ионы и органические вещества, обеспечивая качество и стабильность ультрачистой воды и отвечая высоким требованиям полупроводникового производства к качеству воды.

Кроме того, система EDI имеет преимущества простой эксплуатации, отсутствия необходимости в регенерации и стабильного качества очищенной воды. При соблюдении требований к притоку она может гарантировать, что удельное сопротивление непрерывно производимой воды будет ≥ 15 МОм.

5. Система полирующих смешанных слоев:
В каком производственном процессе применяется
Полирующие смешанные слои в основном используются в полупроводниковой промышленности для процесса подготовки ультрачистой воды.

Мытье чипов: В процессе производства чипов образуются различные примеси в результате таких процессов, как химическое/физическое осаждение, коррозия и обжиг. Для удаления этих примесей и обеспечения производительности чипов необходимо использовать ультрачистую воду для промывки.

Получение полупроводниковых материалов: Ультрачистая вода может удалять примеси с поверхности полупроводниковых материалов, обеспечивая требования к чистоте полупроводниковых материалов, тем самым эффективно повышая производительность и надежность полупроводниковых чипов.

На этих этапах процесса ультрачистая вода используется для очистки полупроводниковых приборов и оборудования, обеспечивая чистоту поверхности продукта и предотвращая влияние загрязняющих веществ на производительность и надежность продукта. Система полирующих смешанных слоев может эффективно удалять ионы и органические вещества из воды, обеспечивая соответствие качества воды высоким стандартам в полупроводниковой промышленности.

Технические принципы
Технический принцип полирующего смешанного слоя основан в основном на принципе ионного обмена. Эта смола представляет собой полимерное соединение, состоящее из специальных ионообменных групп, которые могут проявлять ионообменную функцию в водных растворах.

В применении в полупроводниковой промышленности полирующие смешанные слои в основном используются для получения ультрачистой воды. Когда исходная вода, содержащая ионы примесей, проходит через смолу, ионообменные группы в смоле будут обмениваться с этими ионами примесей, адсорбировать их на смоле и высвобождать ионы, которые безвредны для процесса. Таким образом, благодаря ионнообменному взаимодействию смолы эффективно удаляются ионы примесей в исходной воде, что приводит к получению воды высокой чистоты.

Какие эффекты мы можем достичь
Во-первых, это обеспечивает качество ультрачистой воды. Ультрачистая вода имеет решающее значение в процессе производства электронных полупроводников. Полирующий смешанный слой может эффективно удалять ионы, органические вещества и другие примеси из воды, обеспечивая качество и стабильность ультрачистой воды и отвечая высоким стандартам качества воды в производстве электронных полупроводников.

Полировка смешанного слоя также способствует повышению эффективности производства. Благодаря своей высокой ионообменной способности и стабильной работе она может сократить простои производства и техническое обслуживание оборудования, вызванные проблемами с качеством воды, обеспечивая непрерывность и стабильность производственного процесса.